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[主观题]
络合滴定中加入掩蔽剂的目的是和干扰离子发生()反应、()反应和氧化还原反应,以消除干扰。
络合滴定中加入掩蔽剂的目的是和干扰离子发生()反应、()反应和氧化还原反应,以消除干扰。
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A.加入掩蔽剂使其与干扰离子形成稳定的络合物而消除干扰的方法为络合掩蔽
B.加入试剂的顺序对络合掩蔽无影响
C.溶液的酸度、金属离子的水解会影响络合掩蔽
D.掩蔽剂的用量、温度也影响络合掩蔽
A.络合铅离子
B.把铅从有机物中分离出来
C.使金属铅离子原子化
D.掩蔽其他金属元素,消除干扰
用EDTA滴定金属离子M时,有时要加入掩蔽剂X掩蔽干扰离子N,则掩蔽剂必须符合KNX______KNY和KMX______KMY以及掩蔽剂本身须______。
A.保护AgCl沉淀,防止其溶解
B.作掩蔽剂使用,消除共存离子的干扰
C.作指示剂
D.防止沉淀凝聚,增加沉淀比表面
A.配位掩蔽剂必须可溶且无色
B.沉淀掩蔽剂的溶解度要很小
C.氧化还原掩蔽剂必须改变干扰离子的价态
D.掩蔽剂的用量越多越好
E.掩蔽剂最好是无毒的
A.当铝、锌离子共存时,可用NH4F掩蔽Zn2+而测定Al3+
B.测定钙、镁时,可用三乙醇胺掩蔽少量Fe3+、Al3+
C.使用掩蔽剂时,要控制一定的酸度条件
D.Ca2+、Mg2+共存时,可用NaOH掩蔽Ca2+
E.Bi3+、Fe3+共存时,可用盐酸羟胺掩蔽Fe3+的干扰
A.加入H2O2,与钛形成配合物掩蔽 B.加入NaOH使Ti3+生成沉淀而分离
C.以Na2WO4为指示剂,用K2Cr2O7滴定至无色
D.用KMnO4滴定至粉红色 E.控制溶液酸度使Ti3+不干扰