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[单选题]

依据我国《集成电路布图设计保护条例》和《集成电路知识产权条约》的规定,下列表述中正确的表述是:()

A. 外国人在中国境内创作的布图设计,依照本条例享有布图设计专有权。

B. 外国人创作的布图设计首先在中国境内投入商业利用的,依照本条例享有布图设计专有权。

C. 外国人在同中国签订有关布图设计保护协议或者与中国共同参加有关布图设计保护国际条约的国家领土内首先投入商业利用的布图设计,依照本条例享有布图设计专有权。

D. 外国人在同中国签订有关布图设计保护协议或者与中国共同参加有关布图设计保护国际条约的国家境内创作的布图设计,依照本条例享有布图设计专有权。

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第1题
依据我国《集成电路布图设计保护条例》,下列表述正确的有()

A.布图设计专有权的取得方式是登记

B.布图设计专有权的保护期为10年,自授权公告之日起算

C.对布图设计专有权可以适用强制许可

D.对受保护的布图设计进行反向工程不构成侵权

E.布图设计专有权的转让自书面合同签订之日起生效

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第2题
未经登记的布图设计也受《集成电路布图设计保护条例》的保护()
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第3题
根据集成电路布图设计保护条例及相关规定,申请人以书面形式申请集成电路布图设计登记的,应当提交下列哪些文件或者物品?

A.集成电路布图设计登记申请表

B.集成电路布图设计的说明书和权利要求书

C.集成电路布图设计的复制件或者图样

D.集成电路布图设计已投入商业利用的,提交含有该布图设计的集成电路样品

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第4题
国内现行知识产权保护体系不涉及()。

A.《商标法》

B.《专利法》

C.《集成电路布图设计保护条例》

D.《劳动合同法》

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第5题
根据集成电路布图设计保护条例的规定,下列哪些说法是正确的?

A.布图设计专有权经国务院知识产权行政部门登记产生

B.未经登记的布图设计不受集成电路布图设计保护条例的保护

C.无论是否登记或者投入商业利用,布图设计自创作完成之日起10年后,不再受集成电路布图设计保护条例的保护

D.布图设计自其在世界任何地方首次商业利用之日起2年内未提出登记申请的,国务院知识产权行政部门不再予以登记

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第6题
外国人创作的布图设计首先在中国境内投入商业利用的,依照《集成电路布图设计保护条例》享有布图设计()。

A.专有权

B.所有权

C.专利权

D.著作权

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第7题
根据我国《集成电路布图设计保护条例》规定,布图设计无论是否登记,自创作完成之日起多少年后将不再受保护()。

A.10年

B.15年

C.20年

D.25年

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第8题
根据集成电路布图设计保护条例及相关规定,集成电路布图设计权利人享有下列哪些专有权?

A.对受保护的布图设计的全部进行复制

B.对受保护的布图设计中的任何具有独创性的部分进行复制

C.将受保护的布图设计投入商业利用

D.将含有受保护的布图设计的集成电路投入商业利用

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第9题
根据集成电路布图设计保护条例的规定,侵犯布图设计专有权引起纠纷的,布图设计权利人或者利害关系
人可以请求下列哪个部门处理?

A.国务院工商行政管理部门

B.国务院著作权行政管理部门

C.国务院知识产权行政部门

D.地方各级管理专利工作的部门

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第10题
根据《集成电路布图设计保护条例》的规定,下列哪些行为可以不经布图设计专有权人的许可并且可以不向其支付报酬?

A.单纯为评价、分析目的而复制受保护的布图设计

B.对受保护的布图设计中某些具有独创性的部分进行复制

C.将布图设计专有权人投放市场的含有受保护布图设计的集成电路再次进行商业利用

D.将自己独立创作的与受保护的布图设计相同的布图设计投入商业利用

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