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第2题
以下关于“本征半导体”与“杂质半导体”的描述正确的是()。
A、纯净无杂质、结构理想无缺陷的半导体是本征半导体
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B、实际的半导体材料总是存在杂质和缺陷的，只要杂质和缺陷在一定限度内，就可看作是本征半导体
C、本征半导体掺入杂质可形成杂质半导体
D、本征半导体掺入施主杂质可形成n型半导体，掺入受主杂质可形成p型半导体
E、n型半导体依靠导带电子导电
F、p型半导体依靠价带空穴导电
G、本征半导体中载流子由本征激发产生
H、本征半导体中导带电子浓度等于价带空穴浓度
I、施主杂质电离可以为半导体提供导电电子
J、受主杂质电离可以为半导体提供导电空穴
K、杂质半导体中载流子主要靠杂质电离产生
L、杂质半导体中也存在本征激发的过程
第10题
以下关于“简并半导体”的描述正确的是：（)。
A.n型简并半导体，导带中的电子服从费米分布函数
B.p型简并半导体，价带中的空穴服从费米分布函数
C.费米能级距离带边(导带底或价带顶)很近，甚至进入导带或价带
D.n型简并半导体，导带中的电子服从玻耳兹曼分布函数
E.p型简并半导体，价带中的空穴服从玻耳兹曼分布函数
F.费米能级位于禁带内，且与导带底或价带顶的距离大于2k0T
