根据集成电路布图设计保护条例的规定,布图设计登记申请人对国家知识产权局驳回其登记申请的决定不服的,可以如何处理?
A.自收到通知之日起3个月内,向国家知识产权局申请行政复议
B.自收到通知之日起3个月内,向国家知识产权局申诉
C.自收到通知之日起3个月内,向国家知识产权局请求复审
D.自收到通知之日起3个月内,向人民法院提起行政诉讼
A.自收到通知之日起3个月内,向国家知识产权局申请行政复议
B.自收到通知之日起3个月内,向国家知识产权局申诉
C.自收到通知之日起3个月内,向国家知识产权局请求复审
D.自收到通知之日起3个月内,向人民法院提起行政诉讼
A.布图设计专有权经国务院知识产权行政部门登记产生
B.未经登记的布图设计不受集成电路布图设计保护条例的保护
C.无论是否登记或者投入商业利用,布图设计自创作完成之日起10年后,不再受集成电路布图设计保护条例的保护
D.布图设计自其在世界任何地方首次商业利用之日起2年内未提出登记申请的,国务院知识产权行政部门不再予以登记
A.单纯为评价、分析目的而复制受保护的布图设计
B.对受保护的布图设计中某些具有独创性的部分进行复制
C.将布图设计专有权人投放市场的含有受保护布图设计的集成电路再次进行商业利用
D.将自己独立创作的与受保护的布图设计相同的布图设计投入商业利用
A.国务院工商行政管理部门
B.国务院著作权行政管理部门
C.国务院知识产权行政部门
D.地方各级管理专利工作的部门
A.2004年11月11日
B.2005年2月1日
C.2005年4月1日
D.2005年12月1日
A.集成电路布图设计登记申请表
B.集成电路布图设计的说明书和权利要求书
C.集成电路布图设计的复制件或者图样
D.集成电路布图设计已投入商业利用的,提交含有该布图设计的集成电路样品
A.对受保护的布图设计的全部进行复制
B.对受保护的布图设计中的任何具有独创性的部分进行复制
C.将受保护的布图设计投入商业利用
D.将含有受保护的布图设计的集成电路投入商业利用
A. 外国人在中国境内创作的布图设计,依照本条例享有布图设计专有权。
B. 外国人创作的布图设计首先在中国境内投入商业利用的,依照本条例享有布图设计专有权。
C. 外国人在同中国签订有关布图设计保护协议或者与中国共同参加有关布图设计保护国际条约的国家领土内首先投入商业利用的布图设计,依照本条例享有布图设计专有权。
D. 外国人在同中国签订有关布图设计保护协议或者与中国共同参加有关布图设计保护国际条约的国家境内创作的布图设计,依照本条例享有布图设计专有权。