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[判断题]

MOS结构半导体表面处于反型区时,表面电荷的改变主要依靠的是漂移与扩散运动。()

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第1题
对于理想的MIS结构,在外加偏压作用下,半导体表面多子浓度比体内多子浓度高时,处于哪种状态?()

A.多子积累

B.少子积累

C.多子耗尽

D.少子反型

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第2题
对于理想的MIS结构,在外加偏压作用下,半导体表面少子浓度比体内的多子浓度还要高时,处于哪种状态?()

A.少子反型

B.多子积累

C.多子耗尽

D.本征状态

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第3题
对于理想的MIS结构,在外加偏压作用下,半导体表面从多子耗尽状态到少子反型状态的过渡状态是?()

A.本征状态

B.平坦能带状态

C.多子积累状态

D.深耗尽状态

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第4题
对于理想的MIS结构,在外加偏压作用下,半导体表面从多子积累状态到多子耗尽状态的过渡状态是?()

A.平坦能带状态

B.少子反型状态

C.深耗尽状态

D.本征状态

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第5题
关于缓变沟道近似(GCA),下列说法中正确的是()。

A.GCA成立条件是沿沟道方向(电流前进方向)电场强度远小于栅感应电场(半导体表面电场)

B.强反型时可以用GCA,但亚阈值时不能用GCA

C.用了GCA后,反型电荷面浓度与沟道中位置无关

D.用了GCA后,可以把二维问题转化为一维

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第6题
与硅太阳电池相比,GaAs太阳电池具有许多显著的特点,GaAs材料是直接跃迁型半导体对可见光的__
______________ 高,使绝大部分的可见光在材料表面2μm以内就被吸收,电池可采用薄层结构,相对节约材料是其中之一。

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第7题
当蛋白质处于等电点时,可使蛋白质分子的()A.稳定性增加B.表面净电荷不变C.表面净电荷增加D.

当蛋白质处于等电点时,可使蛋白质分子的()

A.稳定性增加

B.表面净电荷不变

C.表面净电荷增加

D.溶解度最小

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第8题
金属线材拉伸时受到的外力有()。

A.出线端的拉伸力

B.模孔变形区对金属线材的正压力

C.模孔(变形区和定径区)与线表面之间的摩擦力

D.线材后端的反拉力

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第9题
对于实际的MIS结构,哪些因素会影响MIS结构的C-V特性曲线,使曲线相较于理想MIS结构的C-V特性曲线发生偏移?()

A.金属和半导体之间存在功函数差

B.绝缘层中存在电荷

C.半导体与绝缘层的界面处存在表面态

D.外加偏压

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第10题
为什么测量半导体硅单晶导电类型时,要对单晶的被测表面进行喷砂处理?

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第11题
和动态MOS存储器相比,双极型半导体存储器的性能是________。A.集成度高,存取周期快,位平均功耗少B

和动态MOS存储器相比,双极型半导体存储器的性能是________。

A.集成度高,存取周期快,位平均功耗少

B.集成度高,存取周期快,位平均功耗大

C.集成度低,存取周期快,位平均功耗大

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